一、产品概述

Hei-PLATE 系列是德国 Heidolph（海道尔夫）面向基础化学、分析实验、生物制备等日常实验场景研发的高可靠性磁力搅拌平台。该系列通过优化磁场耦合结构、高耐久搅拌台面材料以及稳定的加热控制逻辑，实现了长期连续搅拌过程中的稳定输出，适合科研院所、企业研发中心及质量控制实验室。

Hei-PLATE 的核心技术优势包括：

• 磁耦合驱动结构稳定，不易“跳子”与失步

• 加热平台热均匀性高，温度分布稳定性优于传统铝质热板

• 操作界面模块化，可选择旋钮版或数字版

• 支持长时间连续运行（24/7）

与普通磁力搅拌器相比，Hei-PLATE 系列强调实验重复性、温度一致性及操作过程安全。

二、结构设计与关键技术参数

1. 磁耦合系统（Magnetic Coupling System）

Hei-PLATE 采用加强型永磁同步驱动结构，具有高耦合力矩、低噪声和高稳定性的特点。

技术特点：

• 高强度永磁体阵列，提升搅拌子锁定能力

• 稳定驱动逻辑避免高速与高黏度场景下的搅拌失稳

• 支持宽范围搅拌速度，常见 100–1,400 rpm

在复杂溶液（如高黏度聚合物、缓慢溶解固体）中仍保持稳定。

2. 加热平台材料与温度控制

不同型号对应不同加热结构，但 Hei-PLATE 系列普遍采用 陶瓷涂层（Ceramic-coated） 的高耐腐蚀搅拌台面：

主要优势：

• 抗酸碱、抗溶剂

• 表面硬度高，不易划伤

• 温度均匀性高（±5°C 范围内）

加热型号通常可达到 300°C 上限，适合需要均匀加热的化学反应系统。

温度控制逻辑：

• 采用 PID 热控算法

• 具备温度稳定功能，避免温度波动影响反应速率

• 支持外置 PT1000 温度传感器（部分型号）实现溶液真实温控

3. 控制界面（Manual / Digital）

Hei-PLATE 根据实验需求提供两类控制方式：

(1) Manual / 旋钮版：

• 单一旋钮调速

• 操作快速

• 适合教学或基础化学实验室

(2) Digital / 数字控制版：

• LCD 显示搅拌速度及温度

• 具有升温斜率控制（Heating Ramp）

• 可设置温度保持（Hold）逻辑

• 提升重复实验的可控性

三、安全保护逻辑

海道尔夫产品一贯以“安全先行”为原则，Hei-PLATE 系列内置多重安全机制：

• 防过温保护（Overtemperature Protection）

• 加热开启提示灯（HOT Light）

• 温度自锁功能（Safety Temperature Limit）

• 搅拌子失步自动恢复系统（Stirring Restart）

这些逻辑对保证实验人员安全与降低仪器损坏风险非常关键，尤其在有机溶剂环境下。

四、典型应用场景

1. 化学反应体系搅拌

适用于合成化学中的均相反应、溶液制备、缓慢溶解固体类实验。

2. 溶剂蒸发前的预混合（Pre-mixing）

常与 Hei-VAP 旋蒸系统配套使用。

3. 生物培养基制备

可稳定溶解含盐溶液、缓冲液、琼脂培养基。

4. 样品等温加热

适用于需要控制反应速度与温度梯度的实验。

5. 高黏度搅拌

加强磁耦合系统可胜任部分高黏度样品的加热搅拌。

五、Hei-PLATE 系列不同型号的功能差异

六、技术点评

Hei-PLATE 系列在性能上定位于安全、稳定、长寿命实验仪器。在磁力耦合能力、加热稳定性和结构可靠性方面相比普通搅拌器有明显优势。其高耐腐蚀操作面及完善的安全逻辑，是其长期被工业级实验室采用的重要原因。

对于需要 可重复性强、安全性能高、维护量低 的实验，Hei-PLATE 是替代普通磁力搅拌器的理想选择。